光刻机行业深度研究报告：光刻机，半导体设备价值之冠，国产替代迎来奇点时刻-251014-华创证券

报告摘要

光刻机：半导体设备价值之冠，国产替代迎光刻机是半导体设备中最复杂、价值量最高的环节，也是国产化进程中亟待攻光刻作为晶圆制造的核心工序，承担电路图形转移的关键使命，单

核心要点

一、光刻：晶圆制造核心工序，价值量最高的半导体设备环节 ................................. 6
1、光源波长（λ）不断缩短，从汞灯到 DUV 再到 EUV 演进............................... 9
2、数值孔径（NA）持续提升，浸没式技术突破折射率物理瓶颈 ........................ 11
3、工艺因子优化，光照与掩模优化协同推动制程极限延伸 ................................. 12
4、曝光方式逐代升级，步进扫描投影奠定现代光刻主流 ..................................... 15
二、光源、光学与工作台三大环节构成整机核心，光学系统价值量最高 ............... 17
1、茂莱光学：深耕精密光学二十载，光刻光学器件加工与检测技术国内领先.. 33
2、汇成真空：国内领先 PVD 镀膜设备厂商，卡位光刻掩模版镀膜新赛道........ 33

报告信息

文件全名: 《光刻机行业深度研究报告：光刻机，半导体设备价值之冠，国产替代迎来奇点时刻-251014-华创证券-37页.pdf》
适合读者: 战略规划行业研究员
核心数据: 根据观研天下数据中心，2024 年光刻机以约 24%
年 ASML/Canon/Nikon 市占率分别为 61.2%/34.1%/4.7%，Canon 与 Nikon 聚焦
全球最大光刻机采购市场，贡献 ASML 营收 41%。
核心议题: 制造电子设备材料

常见问题

《光刻机行业深度研究报告：光刻机，半导体设备价值之冠，国产替代迎来奇点时刻-251014-华创证券》主要包含哪些内容?

光刻机：半导体设备价值之冠，国产替代迎光刻机是半导体设备中最复杂、价值量最高的环节，也是国产化进程中亟待攻光刻作为晶圆制造的核心工序，承担电路图形转移的关键使命，单核心数据:根据观研天下数据中心，2024 年光刻机以约 24%;年 ASML/Canon/Nikon 市占率分别为 61.2%/34.1%/4.7%，Canon 与 Nikon 聚焦;全球最大光刻机采购市场，贡献 ASML 营收 41%。。

这份报告由哪家机构发布?

本报告由华创证券发布,发布于 2025 年。

这份报告覆盖哪一年、篇幅多大?

覆盖 2025 年,全文约 37。

这份报告是免费的吗?如何获取?

本报告免费查阅,登录资料宝后即可在线获取完整内容。

这份报告适合哪些读者?

适合战略规划、行业研究员等读者参考。

报告涉及哪些关键议题?