半导体行业光掩模：高壁垒材料，国产化率低，下游新应用打开成长新空间-250519-天风证券

光掩模，即光刻掩模版，又称光罩掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移母版，是平板显示、半导体、触控、 电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。 掩模版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行核心数据:从 2012 到 2020 年，全球光掩模市场规模逐年增长。;场，英特尔、三星、台积电等晶圆厂自行配套的掩模版工厂占据 65%的份额，其它的掩模版主要被美国 Photronics、;2.1. 市场规模逐年增长，国内需求不断增加 ........................................................................... 14。

本报告由天风证券发布,发布于 2025 年。

覆盖 2025 年,全文约 50。

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适合战略规划、行业研究员等读者参考。

重点分析了制造、工业、电子、设备等议题。