电子行业深度海外硬科技龙头复盘研究系列之七：筚路蓝缕，如何看待全球光刻胶龙头TOK的成长之路？-240717-东兴证券
光刻是半导体微纳加工的核心工艺，光刻胶是半导体材料皇冠上的明珠。 光刻胶按照显影效果可分为正性光刻胶和负性光刻 光刻胶的原料包括光引发剂、树脂、溶剂、单体及其他助剂等。
报告摘要
光刻是半导体微纳加工的核心工艺，光刻胶是半导体材料皇冠上的明珠。 光刻胶按照显影效果可分为正性光刻胶和负性光刻 光刻胶的原料包括光引发剂、树脂、溶剂、单体及其他助剂等。
核心要点
- 2024 年 7 月 17 日
- 2019 年，Lasertec 推出了对已印有晶圆设计的掩膜版检测
- 2027 年有望超 28 亿美元，ArF 光刻胶为主要类型。
- 2. 复盘全球光刻胶巨头 TOK 成长之路，我们得到了哪些启示？
报告信息
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- 《电子行业深度海外硬科技龙头复盘研究系列之七：筚路蓝缕，如何看待全球光刻胶龙头TOK的成长之路？-240717-东兴证券-26页.pdf》
- 适合读者
- 核心数据
- 东京应化以 26%的市场份额高居榜首，紧随其后的是杜邦、JSR 和住友化学，其市场份额分别为 17%、16%和
- 晶圆厂产能扩张是半导体光刻胶需求增长的核心驱动力。
- 图 3： 光刻胶核心成分为树脂，成本占比为 50% ................................................................................................................... 6
- 光刻胶、KrF 光刻胶、g/i 线光刻胶在各自细分领域的市占率均为全球第一，分别为 38.0%，36.6%，22.8%，而 ArF 光刻胶
- 的全球市占率为 16.2%，位列全球第四。
- 核心议题
常见问题
《电子行业深度海外硬科技龙头复盘研究系列之七：筚路蓝缕，如何看待全球光刻胶龙头TOK的成长之路？-240717-东兴证券》主要包含哪些内容?
光刻是半导体微纳加工的核心工艺，光刻胶是半导体材料皇冠上的明珠。 光刻胶按照显影效果可分为正性光刻胶和负性光刻 光刻胶的原料包括光引发剂、树脂、溶剂、单体及其他助剂等。核心数据:东京应化以 26%的市场份额高居榜首，紧随其后的是杜邦、JSR 和住友化学，其市场份额分别为 17%、16%和;晶圆厂产能扩张是半导体光刻胶需求增长的核心驱动力。;图 3： 光刻胶核心成分为树脂，成本占比为 50% ................................................................................................................... 6。
这份报告由哪家机构发布?
本报告由东兴证券发布,发布于 2024 年。
这份报告覆盖哪一年、篇幅多大?
覆盖 2024 年,全文约 26。
这份报告是免费的吗?如何获取?
本报告免费查阅,登录资料宝后即可在线获取完整内容。
这份报告适合哪些读者?
适合战略规划、行业研究员等读者参考。
报告涉及哪些关键议题?
重点分析了制造、机械、电子、设备等议题。
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